破坏韩国半导体未来！日本管制范围升级了......

OLED industry

一个有内容的公众平台！

已经证实，日本政府已将用于下一代半导体技术研发（R＆D）的材料以及目前用于半导体制造的技术包括在出口管制对象中。 它将被解释为不仅要向韩国半导体产业施加压力，还要破坏未来的研发。 据分析，这是日本政府为了控制韩国半导体产业而进行的周密准备。

7月4日，电子报获得了日本经济产业省颁发的“出口管制项目”清单，并向专家进行了咨询。 结果，已经证实可以对韩国半导体业界造成打击的核心材料被列入此次限制对象。

名单上列出了四种类型的光刻胶。 在波长为15至193nm的光中使用的正性光刻胶;在1至15nm的波长下使用的光刻胶;在电子束或离子束中使用的光刻胶以及在压印光刻设备中使用的光刻胶。

据专家介绍，15至193纳米光刻胶是指使用氟化氢的半导体蚀刻。 小于1至15nm的光刻胶是用于极紫外（EUV）的蚀刻。

这些都是三星电子和SK海力士目前在半导体制造上使用的技术。 两家公司从日本企业获得氟化氢、EUV所需的光刻胶。

如果日本政府限制这些光刻胶的出口，将不可避免地导致三星电子和SK海力士半导体生产中断。

特别是，注意到日本政府已经确认用于电子束或离子束蚀刻剂的光刻胶和压印光刻设备已经被放在该目的上。

电子束和离子束作为下一代光源正在引起人们的关注，以实现超细工艺。 它也被称为能够实现1欧姆或更低的EUV无法做到的光源，似乎它打算对下一代半导体研发施加压力。

韩国大学教授看到日本政府的限制资料后诊断说:“这无异于切断了韩国元件企业、设备企业、学界和研究机构使用的所有光刻胶。 ”

光刻胶是半导体生产的必备材料。 并且用于在晶片上印刷电路的曝光工艺中。 进口依存度高于其他材料，因此因此被选为日本政府的出口限制，将是带来影响最大的产品。

日本政府已经收紧对光刻胶，氟化氢和聚酰亚胺氟化物的出口管制，这些都被认为是对日本最高法院4日裁决的报复。 早些时候，日本政府周三制定了相同的制裁措施。(译/OLEDindustry  ETnews）