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三星、台积电10 纳米技术量产，7 纳米制程战火持续升高！而且随着关键的微影技术来到瓶颈，7 纳米制程技术也变成新一轮制程技术的关键之战。
除了三星在去年年中传出急购EUV 机台，力拼2017 年底量产7 纳米，台积电在上周12 日法说会首度明确指出，在7 纳米制程第二年，就会导入EUV 减少光罩层数，至5 纳米制程全面采用EUV。台积电总经理暨共同执行长刘德音曾透露，10 纳米与7 纳米将有95% 设备是共用，也因此台积电此前表明，至5 纳米才会正式转进EUV，现在三星、台积电在7 纳米将一前一后用上EUV，先进制程也正式宣告进入新一阶段技术竞赛。
随着先进制程来到10 纳米以下，制程微缩瓶颈一一浮现，尤其是制程中难度最高的微影技术，目前主流多采用193 纳米浸润式微影技术，但从65 纳米制程到现在一路突破物理极限至目前10 纳米，面临的不只是物理上的瓶颈，愈来愈复杂的图形造成曝光次数增加，光罩成本也跟着倍增。摩尔定律价格不变，积体电路上可容纳的电晶体数量每隔18~24 个月会增加一倍的目标变得窒碍难行，极紫外光（EUV）微影就被视为摩尔定律能持续往下走的关键。
EUV先前因光源强度与生产量未达经济效益，迟迟未能量产。据目前EUV设备制造商艾司摩尔（ASML）在去年11月EUVL Workshops透露的进度，EUV光源强度已能达到125W，预计2018年能达到光源强度250W，可支持每小时生产125片晶圆的量产目标。届时三星与台积电正好走至7纳米制程。距离台积电2020年5纳米量产，EUV或许更能接近浸润式微影设备每小时能生产逾200片晶圆的生产效益。
晶圆制造商先前已陆续安装EUV 进行试产，三星在2015 年7 月即携IBM，利用EUV 打造7 纳米芯片原型，2016 年中再有消息指出，三星砸重金采购新的NXE 3400 EUV 机台，将于7 纳米就导入EUV 技术以力抗台积电等对手。而台积电先前即拥有两台NXE 3300 EUV 设备，据悉在今年第一季又再引进了两台NXE 3400，另外，有消息指出，艾司摩尔大客户在7 纳米同样有意导入EUV。从艾司摩尔18 日的最新数据，加上2016 年第四季再获得的4 台订单，目前EUV 设备累积订单数量已达18 台。
然EUV 机台并不便宜，一台EUV 光刻机要价逾1 亿美元，是其他微影技术设备金额的两倍，这场制程竞赛，比技术也比银两，竞争门槛跟着愈垫愈高。
追逐新工艺需求带旺ASML，2018 EUV产能达到24台
欧洲最大半导体设备厂艾司摩尔（ASML）18日发布优于市场预期的第4季财报，并表示最新、最贵的机器订单已接到2018年初。
ASML上季净利由一年前的2.92亿欧元增至5.24亿欧元（5.6亿美元），优于分析师预估的4.14欧元。第4季营收成长33%至19.1亿欧元，连续第四年营收成长。
ASML该公司预计今年第1季利润率约为47%，营收为约18亿欧元（19亿美元），高于分析师平均预计17.6亿欧元，以及一年前的13.3亿欧元。
ASML股价18日早盘劲扬5.7%，为2016年1月21日以来最大涨幅。ASML的股价过去一年已上涨50%，公司市值达476亿欧元。
最新光刻系统的展望佳，对艾司摩尔至为重要，这是该公司能否持续主宰市场及达成2020年前年销售110亿美元的关键因素。
艾司摩尔执行长温彼得（Peter Wennink）说，2016年肯定是重要的转捩点，「从我们的订单可以看出来」。该公司上季拿到15.8亿欧元的新订单，包括六部新极紫外光（EUV）光刻机，每部价值约1亿欧元，而且需一年时间建置。
以ASML目前的产能每年可生产12部EUV，2018年前将扩增至24部。报导指出，艾司摩尔2017年所有EUV机器都已卖掉，而且2018年的首批订单也到手了。
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