凭借
丰富的iPDK库
，
新思科技定制设计平台可广泛适用于各种先进和传统工艺技术
完整的iPDK库可让用户解锁更多高级功能，加速和拓宽开发者对
新工艺节点的使用，促进设计复用，并实现进一步创新
三
星充分认可新思科技的定制设计参考流程为其提供了高效设计和验证的最佳实践
新思科技（Synopsys）近日宣布与三星晶圆厂合作开发、验证了30 多款全新的可互操作工艺设计套件 (iPDK) 。
这些iPDK
支持新思科技定制设计平台，并广泛覆盖了三星芯片生产流程中的先进和传统工艺节点。
利用新思科技定制设计平台这一速度和效率更佳卓越的设计和验证解决方案，版图速度可提高5倍、设计收敛速度可提高2倍，可为使用各种三星工艺技术的客户提供最高的生产效率
。
新思科技与三星的此次合作包括一套完整的三星 iPDK组合、方法学和设计流程的开发和验证，也包括在新思科技定制设计平台上利用
Custom Compiler™
和版图环境，实施的一套全面的iPDK开发和验证解决方案。这里所说的环境包括HSPICE®电路仿真器、FineSim®电路仿真器、CustomSim™ FastSPICE电路仿真器、Custom WaveView™波形显示、StarRC™参数提取以及IC Validator物理验证。
“
我们致力于满足客户在技术和复杂定制设计方面对于专业知识的需求。我们发现，市场对于新思科技定制设计平台及其设计和验证解决方案的需求越来越高。
通过与全面定制设计和创新EDA解决方案的行业领导者新思科技的紧密合作，我们为行业树立了基于三星工艺技术的优化流程和iPDK新标杆
。对于新思科技的差异化设计和验证流程解决方案，三星晶圆厂认证其有助于提高开发者在不同节点的效率。
”
——Jongwook Kye
设计实现团队副总裁
三星
晶圆厂
三星和新思科技的iPDK库多达30多种，涵盖了先进的全环绕栅极，3nm到14nm的FinFET工艺节点，以及65nm到130nm的传统工艺节点
。不同节点的开发者均可使用该iPDK库的高级功能，基于新思科技最新的定制实施完整解决方案，充分利用模拟和混合信号集成电路和IP。iPDK库中的每一款iPDK均包含文档和设计基础架构元素，例如用于不同器件的仿真模型、图层和技术文件、用于物理和电气设计规则验证的设计规则检查（DRC）、版图与电路图运行设置文件（LVS）、寄生参数提取设置文件、电路符号库和参数化器件以及用于帮助客户达成最佳芯片的功率和性能优化。
