Semi Display 编译/ 3月12日，从OLED-Info获悉，东丽研究中心(TRC)分享了一场新的公开在线网络研讨会记录，专注于OLED材料分析与评估。网络研讨会的记录将一直可用至4月5日。
OLED驱动电路的3D观察(TRC幻灯片，2025-03)
第一讲题为“显示器的当前分析技术”，将介绍TC的技术、服务、专长和设备。TRC将详细说明公司过去一年安装的最新分析技术，并解释适用于不同类型显示器和分析目标的最合适技术。
第二讲将讨论OLED材料杂质的分析。OLED行业在耐用性和寿命改进方面仍面临挑战，有机材料和沉积设备中的杂质被认为是设备寿命缩短的原因之一。识别材料杂质对于提高OLED性能和OLED面板的质量控制极为重要。在这场讲座中，TRC将展示如何使用质谱法调查OLED材料中的杂质，并将展示如何成功识别影响设备寿命缩短的材料杂质。
OLED劣化机制中的外部因素(TRC幻灯片，2025-03)
第三讲题为“SiNx薄膜渗透性能评估”，将展示使用各种分析技术分析影响SiNx薄膜水分渗透性的因素的结果。二次离子质谱法揭示，随着氧化的进行，SiNx薄膜的阻隔性能急剧下降。即使在表面侧观察到氧化，未发生氧化的区域的水分渗透性非常低，表明SiNx薄膜的固有阻隔性能很高。
第四讲也是最后一讲，题为“通过GCIB-TOF-SIMS分析TADF-OLED的降解”，将深入探讨TADF OLED器件。TADF是下一代高能效OLED器件的有前途的材料平台。尽管TADF材料有前途，但由于TADF过程中长时间处于激发态，其寿命仍然有限。演讲介绍了通过驱动测试或外来杂质分析TADF OLED器件退化的案例。
OLED ETL/HBL中的氧相关离子(TRC幻灯片，2025-03)
注册公开网络研讨会地址：https://www.toray-research.co.jp/en/news/article.html?contentId=12bttw2_k
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